溫州大學(xué)高溫石墨化爐及高真空磁控濺射系統(tǒng)公開招標(biāo)公告
發(fā)布日期：2012年12月18日 | 標(biāo)簽：
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公告摘要
各有關(guān)單位請(qǐng)于2012.12.26前與公告中聯(lián)系人聯(lián)系，及時(shí)參與投標(biāo)等相關(guān)工作，以免錯(cuò)失商業(yè)機(jī)會(huì)。
部分信息內(nèi)容如下：（查看詳細(xì)信息請(qǐng)登錄）
附件：
標(biāo)段一：高溫石墨化爐
設(shè)備名稱數(shù)量功能及技術(shù)參數(shù)
高溫石墨化爐*主要技術(shù)參數(shù)：
最高使用溫度：****℃
高溫區(qū)容積：*.**m*、*.**m*、*.**m*、*.**m*、 *.*m*、 *.**m*、*.*m* 、*.*m*
爐內(nèi)工作氣氛：真空、氫氣、氮?dú)狻⒍栊詺怏w等
溫度均勻度：≤±**℃
溫度測量：遠(yuǎn)紅外線光學(xué)測溫測溫范圍****~****℃；測溫精度：*.*~*.**%。
溫度控制：程序控制和手動(dòng)控制； 控溫精度：±*℃
極限升溫速度：***℃/分鐘（空爐，視高溫區(qū)容積和爐膛結(jié)構(gòu)而定）
備品備件及耗材二次循環(huán)水冷卻系統(tǒng)氣體凈化裝置包含管道、閥等配件等，抽真空系統(tǒng)及配件
質(zhì)保期整機(jī)*年，
售后服務(wù)及培訓(xùn)要求負(fù)責(zé)安裝調(diào)試，人員培訓(xùn)。
交貨時(shí)間及地點(diǎn)****
標(biāo)段二：高真空磁控濺射
設(shè)備名稱數(shù)量功能及技術(shù)參數(shù)
高真空磁控濺射**. 系統(tǒng)主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成；可用于制備金屬膜、介質(zhì)膜以及開發(fā)研究新材料。
*. 真空室為不銹鋼立式結(jié)構(gòu)；上蓋電動(dòng)提升；周圍布置泵口、觀察窗口、電極法蘭及預(yù)留法蘭等。
*. 可制備樣品尺寸：**mm×**mm一片，小片若干；單個(gè)樣品在上，可電動(dòng)自轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速可調(diào)，手動(dòng)升降。樣品加熱溫度可達(dá)***℃，自動(dòng)控溫；升降運(yùn)動(dòng)部件選用進(jìn)口金屬焊接波紋管組件。
***. 三個(gè)及以上靶位。靶在下，向上共濺射。計(jì)算機(jī)控制靶位識(shí)別。每靶均可移動(dòng)，移動(dòng)距離可調(diào)，每靶具有氣動(dòng)擋板，配有屏蔽罩，以避免靶材之間的交叉污染。濺射時(shí)具有內(nèi)烘烤和照明功能。兩路質(zhì)量流量計(jì)；流量大小*～***SCCM。
*. 濺射室本底真空度大于*.*×**－* Pa。
***.美國品牌射頻電源*臺(tái)及以上（功率***W以上），直流電源*臺(tái)及以上（功率***W以上）。
*. 樣品控溫電源一臺(tái)；機(jī)械泵、真空室內(nèi)烘烤照明、樣品自轉(zhuǎn)控制電源一臺(tái)。分子泵、真空計(jì)、質(zhì)量流量計(jì)顯示電源、總控電源一臺(tái)。
*. 報(bào)警及保護(hù)：對(duì)泵、靶、電極等缺水、過流過壓、短路等異常情況進(jìn)行報(bào)警并執(zhí)行相應(yīng)保護(hù)措施。
*. 其它輔件：整套系統(tǒng)安裝在型鋼結(jié)構(gòu)的支撐架上；配備濺射室上蓋升降機(jī)一臺(tái)，配備冷卻水分水器并有進(jìn)口水流報(bào)警開關(guān)。
備品備件及耗材無氧銅密封墊圈及管路，O型氟橡膠密封圈，照明燈，烘烤燈，樣品加熱絲
質(zhì)保期整機(jī)*年
售后服務(wù)及培訓(xùn)要求負(fù)責(zé)安裝調(diào)試，人員培訓(xùn)。
交貨時(shí)間及地點(diǎn)****
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